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KMID : 1059519970410110594
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Journal of the Korean Chemical Society
1997 Volume.41 No. 11 p.594 ~ p.599
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RF Sputtered Lithium Nickel Oxide Films and Their Electrochromism
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Kim Young-Il
Kim Bae-Whan
Choy Jin-Ho
Campet Guy
Park Nam-Gyu
Portier Josik
Morel Bertrand
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Abstract
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RF스퍼터링법을 써서 Li2xNi1-xO 박막을 제조하였으며, 그 과정에서 기판의 온도(50/230C)와 분위기(Ar/O2)를 변수로써 막의 미세구조를 조절하였다. 투과전자현미경을 이용한 막구조 분석에 의해 낮은 기판 온도와 O2 조건에서 막의 조성입자가 작아짐을 관찰하였고,50C/O2 하에서 얻어진 Li2xNi1-xO 박막은 약 80A 크기의 입자로 이루어져 있었다. 전기화학적 조건 하에서 Li2xNi1-xO 박막의 변색현상올 조사한 결과, 박막의 미세구조 발달에 의해 Li+ 이온의 가역적 수용량이 증가하고, 결과적으로 전기변색 기능이 향상됨을 알 수 있었다. 50。C/O2 하에서 얻어진 170nm두께의 Li2xNi1-xO 박막은 30mC/cm2의 Li+이온 수용력과 함께 약1.3의 흡광밀도(OD)를 나타내었다.
Lithium nickel oxide (Li2xNi1-xO) thin films have been prepared by the RF sputtering of lithiated nickel oxide target, where the film microstructure was controlled by the sputtering atmosphere (Ar/O2) and the substrate temperature (Ts=50/230 ℃). From the transmission electron microscopic analysis, it is found that the most porous film with the grain size of ∼80 Å could be fabricated under the sputtering atmosphere of P(O2)=8×10-2 mbar with the Ts=50 ℃. In the optical and electrochemical studies, the Li2xNi1-xO films exhibit a significant electrochromic property in association with the lithium insertion/deinsertion process. The amount of charge insertion (Qi) and the optical density (OD) variation depend on the crystallinity of the film as well as its thickness, and for the Li2xNi1-xO film (170 nm thickness) prepared under O2 atmosphere and Ts=50 ℃, the OD could be increased up to ∼1.3 by the charge insertion with Qi=30 mC/cm2.
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KEYWORD
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FullTexts / Linksout information
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